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ALPhANOV雙激光斷層注入顯微鏡D-LMS

產(chǎn)品介紹

用于雙激光故障注入的 D-LMS 顯微鏡站是一個平臺,允許獨立聚焦和掃描兩個激光點,用于集成電路的評估。雙點注射工藝的理想選擇,它提供了所有空間和時間的靈活性,可以通過背面分析電路

性能特點

集成電路評估雙激光站(均通過顯微鏡點)

背面激光故障注入的理想選擇

具有高分辨率物鏡的1米以下單模激光光斑尺寸

兩個激光光斑都具有完全獨立的時間和空間調(diào)制

通過數(shù)百米的硅來觀察集成電路路徑上的激光點的照相機

高再現(xiàn)性和高分辨率激光光斑位移

包括三個阿爾法諾夫激光模塊

 

可選功能與配件

光學鏡頭技術

光電發(fā)射套件

熱激光刺激套件

通過CE認證的激光外殼完成自動設置

高分辨率目標

技術參數(shù)

單模光纖激光器

 

PDM+/PDM+ HP

PDM4+ and PDM4+ HP

脈沖持續(xù)時間

1.5納秒到連續(xù)波

1.5納秒到連續(xù)波

峰值功率

高達3.2

高達10

波長

980納米;1064牛米

980納米;1064牛米

重復率

從單發(fā)到250兆赫

從單發(fā)到250兆赫

命令接口

TTL/LVTTL /軟件& dlls

TTL/LVTTL /軟件& dlls

光束質(zhì)量

單模

單模

InGaAs 紅外相機

Captor

640x512 µm

動態(tài)量程

140 dB

接口

USB(包含軟件)

電學

電壓

220 V/110 V

電流

16 A

 


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